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图为芯片
为了打破美国封锁,国内多家企业纷纷选择增加在芯片领域的投资,并且已经产生了正面效应,看来中国终于能够不再被卡脖子了,很长一段时间,光刻机被认为是限制中国芯片技术发展的瓶颈,那么国产光刻机发展的咋样了呢?对此有专家表示:目前中国光刻机已经能够实现28纳米制造工艺,并且还在为14纳米做出努力 。
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图为芯片
如今世界上在光刻机领域处于世界一流水平的国家,只有荷兰一家,这个国家手中的ASML公司已经能够研制出5纳米工艺以上的光刻机,最高甚至能够达到2纳米,中国因为起步晚,并且长期遭遇国外的技术封锁,所以跟国外相比依然存在着一定的差距,想要从28纳米实现到5纳米的突破,那么绝对是一场攻坚战,短时间内想要完全突破难度非常大 。
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图为光刻机
那么为何光刻机的制造工艺这么重要呢?其实在芯片的制造领域,目前主要使用硅基材料,如果将芯片放大,可以发现,其内部布满密密麻麻的电路图,而这些电路图,正是依靠光刻机的激光雕刻,将其刻蚀在芯片上,光刻机的制造工艺越高,那么所能够刻蚀的芯片也就越复杂,这样所生产出来的芯片,在性能上自然也就越高,难怪西方国家会禁止高端光刻机出口到中国,毕竟一旦国内掌握了这项技术,那么很多国家靠芯片躺着赚钱的时代将彻底过去 。
虽然光刻机在芯片生产领域起着重要作用,但它就是全部因素吗?显然不是,因为芯片行业也是一个非常复杂的行业,涉及到设计、制造、封装与测试多个环节,光刻机只是在其中一个环节中发挥作用,芯片的设计架构,包括材料也会影响到它的性能,此前这些技术或许被西方国家长期主导,但随着中国科的技不断进步,这种情况完全可能将发生彻底的逆转 。
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图为芯片
因为在中国增加芯片领域的投入,同时也在大力鼓动这一行业的技术创新,比如中科院就成功研发出石墨烯芯片,并且还出现了量子芯片,另外,在许多关键领域,中国的芯片已经能够做到自给自足,比如在航天领域,包括超算领域,中国都能够使用国产芯片,只是在5G技术领域,由于这项技术刚刚诞生,中国在这方面还不够成熟,所以才给了西方国家制裁的机会,相信用不了多久,随着中国技术的进步,这些情况也将获得极大的改变 。
【中国首台5纳米光刻机 中芯国际5nm光刻机到货了】芯片技术的发展,归根结底还是人才的培养,因为只有足够多的行业人才,这样才能够推动国产芯片产业的全面进步,中国之所以能够取得今天的成就,靠的正是钱学森、邓稼先等一众科学家不断刻苦攻坚,所以中国现在也必须重视人才的培养,并且提升科技工作者的待遇,让国家对人才的吸引力提升 。
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