制备
高纯水制备的典型工艺流程如下[3]：
源水→过滤→活性炭过滤器（或有机大孔树脂吸附器）→反渗透器（或电渗析器）→阳离子交换柱→阴离子交换柱→ 混合离子交换柱→有机物吸附柱→紫外灯杀菌器→精密过滤器→高纯水 。
高纯水的制备流程由预处理、脱盐和后处理三部分组成，根据用水的要求，选择合适的工艺组合 。
（1）预处理 。主要是除去悬浮物、有机物，常用的 *** 有砂滤、膜过滤、活性炭吸附等 。
（2）脱盐 。主要是除去各种盐类，常用的 *** 有电渗析、反渗透、离子交换等 。
（3）后处理 。主要是除去细菌、微颗粒，常用的 *** 有紫外杀菌、臭氧杀菌、超过滤、微孔过滤等 。
水质标准
制定高纯水标准中各项指标的主要依据有三个方面：一是微电子工艺对水质的要求；二是制水工艺的发展水平；三是水中杂质监测技术的现状[4] 。
我国高纯水的国家标准将电子级水分为五个级别，相应标准为EW-I、EW-Ⅱ、EW-Ⅲ、EW-IV、EW-V，其中EW-I为更高级，它所要求的杂质控制指标如下：电阻率在90%时间内达到18 MQ·cm（25℃），其余时间最小值为17 MQ·cm（25℃），大于0.5 μm的微粒数少于100个/mL，细菌个数更大值1个/mL，总有机碳含量不大于50 μg/L，二氧化硅总含量不大于2 μg/L，氯、钾、铝、铁、钙的含量均不大于0.5 μg/L，而铜、锌含量不大于0.2 μg/L 。
近年来，随着超大规模集成电路的发展，对水中总有机碳(TOC)及溶解氧（DO）也提出了更为严格的要求，如256 M或1 G位超大规模集成电路制造中，要求高纯水的溶解氧及总有机碳均小于2 μg/L或更低 。
应用
高纯水主要应用在电子和微电子工业上，也用于食品、造纸、医药等行业 。随着半导体器件由过去的单电路发展到集成电路，对水质的要求就越来越高 。在半导体切片和研磨过程中，须用高纯水进行清洗，即使只有微粒尘埃杂质，也会影响产品质量[5] 。
好了，文章到此结束，希望可以帮助到大家 。
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