同时，布图设计的创造性还要求，受法律保护的布图设计，与以往的布图设计相比，要有一定的进步性和新颖性 。布图设计要应用于工业实践，若无进步性和新颖性，也就没有予以知识产权保护的必要 。不过，布图设计的创造性和新颖性，不必达到专利法要求的标准，只要比以往的布图设计有一定的进步性和不同，就可以得到法律保护 。这是因为，集成电路产品的更新换代表现为集成度的不断提高，在同样体积的芯片上布局更多的元件以增强功能、降低能耗 。新的集成电路产品，不过是比原来的产品集成度高，不可能是前所未有的，也不大可能达到突出的实质性特点和显著的进步 。所以，已颁布集成电路保护法的国家，均不直接采纳专利法中的创造性和新颖性的标准，而是降低要求，以适应实际情况 。
集成电路是应用广泛的工业产品，布图设计是其生产过程的一个重要环节，是中间产品，布图设计的实用性是非常明显的 。
（四）布图设计是独立的知识产权客体
布图设计是独立的知识产权客体，有着自己的特点 。因而，已颁布集成电路保护法的国家，基本上不引用著作权法或专利法来保护它，而是依据其特点，制订单行法规，将之作为独立的客体予以保护 。
美国是当今世界上半导体工业最发达的国家，也是更先对集成电路布图设计予以立法保护的国家 。1984年美国颁布了《半导体芯片产品保护法》（“ProtectionofSemiconductorChipProductsAct”），并于1984年11月8日起实施，确认了布图设计专有权 。这部法律虽然作为《美国法典》第17编（版权法）的最后一章，即第9章，但它实际上是一个独立的体系，既不属于版权法体系，也不属于专利法体系 。布图设计权不是版权，而是作为与版权近似的一项独立的权利（copyright-like），受特殊保护（suigenerispotection）.⑥在美国1984年《半导体芯片产品保护法》的影响下，日本于1985年5月31日颁布了《半导体集成电路的线路布局法》 。日本的这部法律在立法体例和内容上均与美国法相似，既不隶属于版权法，也不隶属于专利法，而是自成体例，以单行法规的形式出现 。
文章插图
5什么是集成电路版图设计就是按照晶体管级电路图设计集成电路的工艺图层，每一层代表一种使用的材料，比如多晶硅，有源区，金属1，金属2等等 。
个人认为这和机械上的机械制图很相似，工厂都是按照这种图加工产品的；只不过机械厂造出来的是机器，集成电路生产厂家通过各种工艺（光刻，刻蚀，离子注入），按照版图生产集成电路 。
现在纯手工不借助子电路版图库画版图的情况已经比较少了 。有问题欢迎继续问我，我是超大规模集成电路方向的研究生
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