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源极、栅极、漏极的定义如下：
源极（Field Effect Transistor缩写（FET））简称场效应管 。一般的晶体管是由两种极性的载流子，即多数载流子和反极性的少数载流子参与导电，因此称为双极型晶体管，而FET仅是由多数载流子参与导电，它与双极型相反，也称为单极型晶体管 。
栅极由金属细丝组成的筛网状或螺旋状电极 。多极电子管中排列在阳极和阴极之间的一个或多个具有细丝网或螺旋线形状的电极，起控制阴极表面电场强度从而改变阴极放射电流或捕获二次放射电子的作用 。
漏极在两个高掺杂的P区中间，夹着一层低掺杂的N区（N区一般做得很薄），形成了两个PN结 。在N区的两端各做一个欧姆接触电极，在两个P区上也做上欧姆电极，并把这两P区连起来，就构成了一个场效应管 。
不一样 。
MOS管是电压控制器件，三极管是电流控制器件 。
MOS管比较抽象，是因为绝大部分学校对于MOS的教学比较粗糙，很少教 。
MOS管特别怕静电，要是不小心，就容易坏，比三极管要难使用 。
三极管是电流放大器件，有三个极，分别叫做集电极C，基极B，发射极E 。分成NPN和PNP两种 。
MOS管的源(source)和漏(drain)是可以对调的，他们都是在P型backgate中形成的N型区 。在多数情况下，这个两个区是一样的，即使两端对调也不会影响器件的性能 。这样的器件被认为是对称的 。
三极管的工作原理
三极管是电流放大器件，有三个极，分别叫做集电极C，基极B，发射极E 。分成NPN和PNP两种 。我们仅以NPN三极管的共发射极放大电路为例来说明一下三极管放大电路的基本原理 。
一、电流放大
下面的分析仅对于NPN型硅三极管 。如上图所示，我们把从基极B流至发射极E的电流叫做基极电流Ib；把从集电极C流至发射极E的电流叫做集电极电流 Ic 。这两个电流的方向都是流出发射极的，所以发射极E上就用了一个箭头来表示电流的方向 。三极管的放大作用就是：集电极电流受基极电流的控制（假设电源 能够提供给集电极足够大的电流的话），并且基极电流很小的变化，会引起集电极电流很大的变化，且变化满足一定的比例关系：集电极电流的变化量是基极电流变 化量的β倍，即电流变化被放大了β倍，所以我们把β叫做三极管的放大倍数（β一般远大于1，例如几十，几百） 。如果我们将一个变化的小信号加到基极跟发射 极之间，这就会引起基极电流Ib的变化，Ib的变化被放大后，导致了Ic很大的变化 。三极管是电流控制型器件 。
真正要弄明白三极管的工作原理要学量子力学，固体物理学，半导体物理学，晶体管原理4门课
mos管是金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管 。
或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体 。
MOS管的源(source)和漏(drain)是可以对调的，他们都是在P型backgate中形成的N型区 。在多数情况下，这个两个区是一样的，即使两端对调也不会影响器件的性能 。这样的器件被认为是对称的 。
【源极 栅极 漏极是什么？】当MOS电容的栅极(Gate)相对于衬底(BACKGATE)正偏置时发生的情况 。穿过GATE DIELECTRIC的电场加强了，有更多的电子从衬底被拉了上来 。同时，空穴被排斥出表面 。随着GATE电压的升高，会出现表面的电子比空穴多的情况 。由于过剩的电子，硅表层看上去就像N型硅 。掺杂极性的反转被称为inversion，反转的硅层叫做沟道(channel) 。随着GATE电压的持续不断升高，越来越多的电子在表面积累，channel变成了强反转 。Channel形成时的电压被称为阈值电压Vt 。当GATE和BACKGATE之间的电压差小于阈值电压时，不会形成channel 。所以MOS是电压控制型器件 。
