文章插图
1、测量台、曝光台：是承载硅片*工作台 。
2、激光器：也就是光源 ， 光刻机核心设备之一 。
3、光束矫正器：矫正光束入*方向，让激光束尽量平行 。
4、能量控制器：控制最终照*到硅片上*能量 ， 曝光不足或过足都会严重影响成像质量 。
5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同*光束状态有不同*光学特* 。
6、遮光器：在不需要曝光*时候，阻止光束照*到硅片 。
7、能量探测器：检测光束最终入*能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整 。
8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图*玻璃板，贵*要数十万美元 。
9、掩膜台：承载掩模版运动*设备，运动控制精度是nm级* 。
10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小 。
11、硅片：用硅晶制成*圆片 。硅片有多种尺寸 ， 尺寸越大 ， 产率越高 。题外话，由于硅片是圆*，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片*坐标系，根据缺口*形状不同分为两种，分别叫flat、 notch 。
【光刻机工作原理】12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动*扰 ， 并维持稳定*温度、压力 。
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